プラズマ装置

米国Axic社製 XRF,プラズマ装置

AxicはICP, DRIE, PECVD, x-ray計測用の、「低コストで高付加価値」のXRFやプラズマ装置をご提供しております。

これらは半導体・量産・パイロットライン・大学・研究機関にて、多くの納入実績があります。

薄膜エッチングや成膜、プラズマ表面処理、プラズマ洗浄、金属膜の成膜やXRF計測用途など、世界中で採用されております。


Axic社とは

Axic, Inc.は、半導体・エレクトロニクス向けの表面科学装置の開発会社として、1980年に設立されました。

当時の半導体業界は、表面測定分野の専門知識を持った、小さな会社の集まりに過ぎませんでした。
Axic, Inc.は、彼らが必要な設備を選定する際の、重要なポジションに位置していました。

最初に開発された装置は、X線や電子ビームを用いた表面分析や膜厚分析用のものがメインとなり、これらの開発を経て、操作性の高い皮膜組成や膜厚計測用蛍光X線装置を市場投入することができました。

現在3台のコーティング分析用の蛍光X線装置をご用意しております。
これらは、半導体・磁気分析・超電導業界で、研究開発や量産用のアプリケーションとして採用されています。

1992年には半導体・磁気分析業界向けの「反射測定」のマーケットに参入しました。
レーザーを用いて、膜厚測定や屈折率など、透明・半透明の膜の吸収率測定を行うことができます。

ほどなく、プラズマ装置の製造にも着手しました。
「MultiMode HF8」、「PlasmaStar」、「BenchMark 800-II」など
洗浄・レジスト剥離・RIE・PECVD用に使用されています。
これらは、研究開発や小型の製造設備にぴったりです。
プラズマ装置は、お客様のニーズに合わせて製作致します。

導入企業例

・インテル

・テキサスインスツルメント

・モトローラ

・富士通

・ノーテルネットワークス

・シリコンシステム

・ヒューレットパッカード

・IBM

・AT&T

・David Sarnoff

・トムソンCSF

・フィリップス

・アプライドマテリアル

・I.T.T.

・レイセオン

・AMD

・マイクロチップ・テクノロジー

・LSI

・各国大学・研究所

お問合せ

担当:平田

ご興味のある方はこちらよりお気軽にお問い合わせ下さい。